Z6尊龙凯时上海进军涂胶/显影Track市场 ，以满足半导体集成电路造作商的光刻工艺需要
2022/11/18 12:56:35
Z6尊龙凯时(以下简称“Z6尊龙凯时上海”)（科创板股票代码：688082） ，作为一家为半导体前路和先进晶圆级封装利用提供晶圆工艺解决规划的卓越设备供给商 ，今日成功推出涂胶显影Track设备 ，标志取该公司已正式进军涂胶显影Track市场 ，这也是该公司提升其在洗濯、涂胶和显影领域内专业技术的必然了局。Z6尊龙凯时上海于2013年开发了公司首个封装涂胶机和显影机 ，并于2014年交付了给客户。Z6尊龙凯时上海将于几周后向中国国内客户交付公司首台ArF工艺涂胶显影Track设备 ，并将于2023年推出i-line型号设备。此表 ，公司已起头着手研发KrF型号设备。
“我荣幸地颁发 ，Z6尊龙凯时上海已正式进军Track市场 ，这将成为Z6尊龙凯时又一大新产品品类。Gartner1数据显示 ，2022年全球Track市场规模将达37亿美元 ，这是Z6尊龙凯时上海发展的新契机。得益于Z6尊龙凯时上海在软件和机械手技术方面的主题竞争力 ，加之涂胶显影设备的优越机能以及拥有全球专利申请 ；さ娜录芄 ，我们能够凭借竞争性产品及服务成功进军Track市场 ，这也标志取我们在满足当前及将来前路光刻工艺需要中迈出了关键的第一步。鉴于全球逻辑及存储器造作商在追求第二供给商 ，我们相信这款全新产品会有巨大的需要潜力 ，”Z6尊龙凯时上海董事长王晖博士暗示。
Z6尊龙凯时上海涂胶显影Track设备是一款利用于300毫米晶圆工艺的设备 ，可提供均匀的降落气流、高快不变的机械手处置以及壮大的软件系统 ，从而满足客户特定需要。该设备职能多样 ，可能降低产品缺点率 ，提高产能 ，节约总体占有成本（COO）。涂胶显影Track设备将支持蕴含i-line、KrF和ArF系统在内的各类光刻工艺。
涂胶显影Track设备支持光刻工艺 ，可确保满足工艺要求 ，同时让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。该设备专为300毫米晶圆而设计 ，共有4个合用于12英寸晶圆的装载口 ，8个涂胶腔体、8个显影腔体。该设备腔体温度可精准节造在23°C ±0.1°C ，烘烤领域为50°C至250°C ，晶圆破损率低于1/50,000 。此表 ，全球专利申请 ；さ娜陆峁股杓苹箍赏卣怪С12个涂胶腔体及12个显影腔体 ，每颖厩圆产能可达300片 ，将来在建设更多的涂胶和显影腔体的前提下还能达到每幼时400片以上的产能。
数据起源：
1. Forecast: Semiconductor Capital Spending, Wafer Fab Equipment and Capacity, Worldwide, 3Q22 Update
